फोटोवोल्टिक के लिए अल्ट्रा शुद्ध जल प्रणाली

फोटोवोल्टिक के लिए अल्ट्रा शुद्ध जल प्रणाली
विवरण:
प्रसंस्करण प्रौद्योगिकी: डबल पास आरओ और ईडीआई
घटक ब्रांड: DOW झिल्ली और Ionpure EDI और CNP पंप
झिल्ली रखरखाव: सीआईपी सफाई व्यवस्था
आरओ डिजाइन आधार: यूएसए डॉव सॉफ्टवेयर - वेव
स्थिर संचालन और पानी की गुणवत्ता, पीएलसी और एचएमआई नियंत्रण।
आउटपुट जल के लिए ऑनलाइन चालकता निगरानी।
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फोटोवोल्टिक के लिए अल्ट्रा शुद्ध जल प्रणाली विशेष रूप से फोटोवोल्टिक (पीवी) विनिर्माण उद्योग की कठोर जल गुणवत्ता आवश्यकताओं को पूरा करने के लिए डिज़ाइन की गई है। फोटोवोल्टिक उत्पादन प्रक्रियाओं, जैसे वेफर सफाई, सौर सेल निर्माण, और मॉड्यूल असेंबली, को उच्च गुणवत्ता, कुशल और विश्वसनीय सौर पैनल सुनिश्चित करने के लिए अल्ट्राप्योर वॉटर (यूपीडब्ल्यू) की आवश्यकता होती है। यह उन्नत शुद्धिकरण प्रणाली 18.2 MΩ·cm से अधिक प्रतिरोधकता वाले पानी का उत्पादन करने के लिए रिवर्स ऑस्मोसिस (आरओ) और इलेक्ट्रोडेओनाइजेशन (ईडीआई) प्रौद्योगिकियों के संयोजन का उपयोग करती है, जो सौर पैनल के प्रदर्शन और दीर्घायु को प्रभावित करने वाले दूषित पदार्थों को खत्म करने के लिए आवश्यक है।

 

प्रमुख विशेषताऐं

 

उच्च-शुद्धता वाला जल उत्पादन:

The system produces ultrapure water with resistivity levels >18.2 MΩ·cm, जो फोटोवोल्टिक विनिर्माण प्रक्रियाओं जैसे सिलिकॉन वेफर्स की सफाई, फोटोवोल्टिक कोशिकाओं को धोना, और उच्च दक्षता वाले सौर पैनलों के निर्माण में आवश्यक सटीक मानकों को पूरा करता है।

दो-चरण शुद्धिकरण प्रक्रिया:

रिवर्स ऑस्मोसिस (आरओ): शुद्धिकरण के पहले चरण में आरओ झिल्ली शामिल होती है, जो 99% तक घुले हुए लवण, कार्बनिक पदार्थ और कणों को हटा देती है, जिससे कुल घुले हुए ठोस पदार्थों (टीडीएस) में महत्वपूर्ण कमी सुनिश्चित होती है।

इलेक्ट्रोडायोनाइजेशन (ईडीआई): दूसरा चरण पानी को और अधिक विआयनीकृत करने के लिए ईडीआई तकनीक का उपयोग करता है। ईडीआई किसी भी शेष आयन को हटाने के लिए आयन एक्सचेंज रेजिन और एक विद्युत क्षेत्र का उपयोग करता है, जिससे रसायनों की आवश्यकता के बिना उच्च शुद्धता वाले पानी का उत्पादन सुनिश्चित होता है।

रासायनिक-मुक्त पुनर्जनन:

ईडीआई प्रौद्योगिकी बिजली का उपयोग करके आयन एक्सचेंज रेजिन को पुनर्जीवित करती है, जिससे रासायनिक पुनर्जनन की आवश्यकता समाप्त हो जाती है। यह सिस्टम को पर्यावरण के अनुकूल बनाता है, जिससे रासायनिक अपशिष्ट और रसायनों के प्रबंधन और निपटान से जुड़ी परिचालन लागत दोनों कम हो जाती है।

अंतिम पॉलिशिंग फ़िल्टर:

सिस्टम में यह सुनिश्चित करने के लिए पॉलिशिंग फिल्टर शामिल हो सकते हैं कि अंतिम जल उत्पादन किसी भी शेष संदूषक जैसे सूक्ष्मजीवों, कार्बनिक यौगिकों और बारीक कणों से मुक्त है जो पीवी उत्पादन में सफाई और विनिर्माण प्रक्रियाओं को प्रभावित कर सकते हैं।

सतत जल गुणवत्ता निगरानी:

यह प्रणाली प्रतिरोधकता, कुल कार्बनिक कार्बन (टीओसी), सिलिका और कण स्तर जैसे महत्वपूर्ण जल गुणवत्ता मापदंडों के लिए वास्तविक समय की निगरानी से सुसज्जित है। स्वचालित सेंसर यह सुनिश्चित करते हैं कि पानी लगातार पीवी निर्माण प्रक्रिया के लिए आवश्यक शुद्धता मानकों को पूरा करता है।

 

फोटोवोल्टिक विनिर्माण में अनुप्रयोग

 

1. वेफर सफाई:

सिलिकॉन वेफर्स की सफाई के लिए अल्ट्राप्योर पानी आवश्यक है, जो सौर कोशिकाओं में मूलभूत सामग्री हैं। पानी उन संदूषकों से मुक्त होना चाहिए जो उच्च दक्षता वाले फोटोवोल्टिक कोशिकाओं के उत्पादन में बाधा उत्पन्न कर सकते हैं।

2. सौर सेल निर्माण:

सौर कोशिकाओं के निर्माण के दौरान, कोशिकाओं को धोने और किसी भी रसायन या कण पदार्थ को हटाने के लिए अल्ट्राप्योर पानी का उपयोग किया जाता है जो उनके प्रदर्शन को ख़राब कर सकता है।

3. मॉड्यूल असेंबली:

सौर पैनलों की असेंबली प्रक्रिया में पानी का उपयोग किया जाता है ताकि यह सुनिश्चित किया जा सके कि मॉड्यूल साफ और किसी भी संदूषण से मुक्त हैं, जो उनके दीर्घकालिक प्रदर्शन और स्थायित्व को प्रभावित कर सकता है।

4. रासायनिक धुलाई:

कुछ रासायनिक उपचारों (उदाहरण के लिए, नक़्क़ाशी या डोपिंग) के बाद, सतहों को धोने और बेअसर करने के लिए अल्ट्राप्योर पानी का उपयोग किया जाता है, जिससे यह सुनिश्चित होता है कि अंतिम उत्पादों पर कोई हानिकारक अवशेष न रहें।

 

फोटोवोल्टिक के लिए अल्ट्रा शुद्ध जल प्रणाली के लाभ

 

उच्च प्रदर्शन पैनलों के लिए उच्च गुणवत्ता वाला पानी:

इस प्रणाली द्वारा उत्पादित अल्ट्राप्योर पानी यह सुनिश्चित करता है कि फोटोवोल्टिक उत्पादन प्रक्रिया का प्रत्येक चरण दूषित पदार्थों से मुक्त है, जो उच्च दक्षता, टिकाऊ सौर पैनलों के उत्पादन के लिए महत्वपूर्ण है।

संदूषण का कम जोखिम:

सिस्टम प्रभावी ढंग से कणों, कार्बनिक पदार्थों और सूक्ष्मजीवों को हटा देता है, जो सभी फोटोवोल्टिक उत्पादन प्रक्रिया में हस्तक्षेप कर सकते हैं, जिससे सौर कोशिकाओं और पैनलों में दोषों का खतरा कम हो जाता है।

पर्यावरण के अनुकूल:

The chemical-free regeneration in the EDI process ensures that the system is environmentally responsible, reducing the need for harmful chemicals and minimizing wastewater generation.

कम परिचालन लागत:

ईडीआई चरण में रासायनिक उपयोग का उन्मूलन, कम रखरखाव और उच्च दक्षता निस्पंदन के साथ मिलकर, पारंपरिक जल शोधन प्रणालियों की तुलना में कम परिचालन लागत की ओर जाता है जो रासायनिक उपचार पर निर्भर होते हैं।

स्केलेबिलिटी और अनुकूलन:

यह प्रणाली छोटे पैमाने के उत्पादन से लेकर बड़े स्तर की सुविधाओं तक, विभिन्न आकार के फोटोवोल्टिक विनिर्माण संयंत्रों की अलग-अलग जल मांगों को पूरा करने के लिए स्केलेबल है। इसे विशिष्ट उत्पादन आवश्यकताओं के अनुरूप अनुकूलित किया जा सकता है।

 

विशेष विवरण

 

प्रतिरोधकता

>18.2 एमए·सेमी

टीडीएस (कुल घुलित ठोस)

<10-20 ppm

सिलिका

<0.05 ppm (to prevent scaling and contamination in the PV manufacturing process)

टीओसी (कुल कार्बनिक कार्बन)

<10 ppb

कणिका तत्व

<1 ppb

प्रवाह दर

उत्पादन आवश्यकताओं के आधार पर अनुकूलन (आमतौर पर से)।5 m³/घंटाको100 m³/घंटा)

 

फोटोवोल्टिक विनिर्माण के लिए यह अल्ट्रा प्यूरिफाइड जल प्रणाली सौर पैनल उत्पादन में उच्चतम गुणवत्ता वाले पानी को सुनिश्चित करने के लिए एक आवश्यक समाधान है, जो निर्माताओं को पर्यावरण और लागत दक्षता लक्ष्यों का पालन करते हुए उच्च प्रदर्शन फोटोवोल्टिक कोशिकाओं को प्राप्त करने में मदद करता है। चाहे वेफर सफाई, सेल निर्माण, या मॉड्यूल असेंबली के लिए उपयोग किया जाता है, यह प्रणाली सौर ऊर्जा उद्योग के सतत विकास का समर्थन करने के लिए विश्वसनीय, अल्ट्राप्योर पानी प्रदान करती है।

 

सफल मामले

 

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